





特種標(biāo)準(zhǔn)氣體嚴(yán)格意義上應(yīng)稱為標(biāo)準(zhǔn)校正氣體,是一種高度均勻,穩(wěn)定性良好和量值準(zhǔn)確的氣體,特種氣體公司,它可以是單一的純氣體或高純氣體,合肥特種氣體,也可以是由多組分氣體配制而成的混合氣體。標(biāo)準(zhǔn)氣體屬于標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)之一,特種氣體廠家,故又稱為氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。特種氣體在集成電路領(lǐng)域的應(yīng)用:特種氣體是半導(dǎo)體材料制造過程不可缺少的基硅性支撐材料,處于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的 上游,被稱為半導(dǎo)體的“源”,主要應(yīng)用于薄膜、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴(kuò)散等工藝。特種氣體的重要性:在半導(dǎo)體工藝中,從芯片生長到后器件的封裝,幾乎每一步、每一個(gè)環(huán)節(jié)都離 不開電子特氣,因此電子氣體被稱為半導(dǎo)體材料的“糧食”和“源”。

特種氣體分類:高純氣體通常指利用現(xiàn)代提純技術(shù)能達(dá)到的某個(gè)等級純 度的氣體,對于不同類別的氣體,純度指標(biāo)不同,大多用于超大規(guī)模集成電路及分離器 件、光電子等高科技領(lǐng)域;特種氣體在太陽能電池中的應(yīng)用:晶體硅電池片生產(chǎn)中的擴(kuò)散工藝用 到 POCl3 和 O2,特種氣體廠,減反射層 PECVD 工藝用到 SiH4、NH3,刻蝕工藝用到 CF4;20 世紀(jì) 80 年代,電子產(chǎn) 業(yè)的興起推動(dòng)特種氣體的需求提高,隨著氣體供應(yīng)商供氣模式的引入,國內(nèi) 企業(yè)原有的氣體車間、氣體廠和供氣站等紛紛發(fā)展為獨(dú)立的氣體公司,國內(nèi)特種氣體市 場逐步發(fā)展起來。


特種氣體是工業(yè)氣體中的一個(gè)新興門類,是隨著近年來工業(yè)、科學(xué)研究、自動(dòng) 化技術(shù)、精密檢測,特別是微電子技術(shù)的發(fā)展而發(fā)展起來的。特種氣體分類:從應(yīng)用領(lǐng)域劃分,特種氣體主要有電子氣體、高純氣體和標(biāo)準(zhǔn)氣體三種,廣泛應(yīng)用 于電子半導(dǎo)體、化工、環(huán)保和高裝備制造等領(lǐng)域。特種氣體的儲(chǔ)存注意事項(xiàng):儲(chǔ)存高壓氣體≥300m,液化氣≥3000kgs時(shí),儲(chǔ)存場所需要經(jīng)過縣級以上相關(guān)單位批準(zhǔn)。高壓容器儲(chǔ)存場所出入口及顯眼處,需設(shè)有安全警示牌。



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