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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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濺射靶材ITO靶材的生產(chǎn)工藝?ITO靶材的生產(chǎn)工藝可以分為3種：熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結(jié)法。各種生產(chǎn)工藝及其特點簡介如下：
熱等靜壓法：ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預(yù)先成形的胚體，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結(jié)。熱等靜壓工藝制造產(chǎn)品密度高、物理機械性能好，但設(shè)備投入高，貴金屬靶材誰家好，生產(chǎn)成本高，產(chǎn)品的缺氧率高。
人類社會的存在，科學技術(shù)的進步和發(fā)展，已成為21世紀首要的戰(zhàn)略儲備物資，且與各國的政治經(jīng)濟和社會發(fā)展有著息息相關(guān)的緊密聯(lián)系，貴金屬靶材工藝，在已知的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)和應(yīng)用領(lǐng)域中，高純材料、合金、各種深加工的制品（半成品）及化學制品，已被廣泛應(yīng)用到冶金鋼鐵，石油化工，有機化工，化工，貴金屬靶材多少錢，電子電器，汽車制造，光學玻璃，玻璃纖維。
眾所周知，靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進，撫順貴金屬靶材，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。如Ic制造商．近段時間致力于低電阻率銅布線的開發(fā)，預(yù)計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發(fā)將刻不容緩。另外，近年來平面顯示器（FPD）大幅度取代原以陰極射線管（CRT）為主的電腦顯示器及電視機市場．亦將大幅增加ITO靶材的技術(shù)與市場需求。此外在存儲技術(shù)方面。高密度、大容量硬盤，高密度的可擦寫光盤的需求持續(xù)增加．這些均導(dǎo)致應(yīng)用產(chǎn)業(yè)對靶材的需求發(fā)生變化。下面我們將分別介紹靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域，以及這些領(lǐng)域靶材發(fā)展的趨勢。
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